Locally sealed microfabricated vapor cells filled from an ex situ Cs source

L L. Péroux (Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,) A A. Dewilde (Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,) R R. Chutani (Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,) A A. Mazzamurro (Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,) J J. Bonhomme (Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,) A A. Mursa (Université Marie et Louis Pasteur, CNRS, Institut FEMTO-ST 2 , Besançon,) J J.-F. Clément (Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,) A A. Talbi (Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,) P P. Pernod (Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,) N N. Passilly (Université Marie et Louis Pasteur, CNRS, Institut FEMTO-ST 2 , Besançon,) V V. Maurice (Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,)

Abstract

Microfabricated alkali vapor cells are key to enable miniature devices such as atomic clocks and optically pumped magnetometers with reduced size, weight, and power. Yet, more versatile fabrication methods are still needed to further expand their use cases. Here, we demonstrate an approach to collectively fill and seal microfabricated cesium cells using locally sealed microchannels patterned within one of the glass substrates comprising the cells. Unlike current methods that rely on wafer-level anodic bonding as the last sealing step, an approach based on local sealing opens the path to features so far limited to traditional glass-blown cells, including the ability to deposit temperature-sensitive antirelaxation coatings, reaching lower background gas pressure without an additional gettering material or filling with diverse atomic or molecular species.

Article Details

Volume / Issue Vol. 126, Issue 14
Published April 01, 2025
ISSN 0003-6951
Publisher American Institute of Physics

Journal Info

Applied Physics Letters

American Institute of Physics

ISSN: 0003-6951 Physical Sciences

Authors (11)

L

L. Péroux

Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,

A

A. Dewilde

Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,

R

R. Chutani

Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,

A

A. Mazzamurro

Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,

J

J. Bonhomme

Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,

A

A. Mursa

Université Marie et Louis Pasteur, CNRS, Institut FEMTO-ST 2 , Besançon,

J

J.-F. Clément

Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,

A

A. Talbi

Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,

P

P. Pernod

Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,

N

N. Passilly

Université Marie et Louis Pasteur, CNRS, Institut FEMTO-ST 2 , Besançon,

V

V. Maurice

Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie 1 , Lille,