Using Polymerization‐Induced Self‐Assembly in Orthogonally‐Reactive Dispersants to Design Tough Nanostructured Materials: Application to Epoxy Networks

Theophile Ienn; Cindy Lo Van; Raphael Brunel; David Albertini; Eloi Chamczyk; Pierre Alcouffe; Guillaume Sudre; Frederic Lortie; Julien Bernard

doi:10.1002/anie.202518861

Using Polymerization‐Induced Self‐Assembly in Orthogonally‐Reactive Dispersants to Design Tough Nanostructured Materials: Application to Epoxy Networks

T Theophile Ienn (Université Claude Bernard Lyon 1, INSA Lyon, Université Jean Monnet, CNRS UMR 5223 Ingénierie des Matériaux Polymères F‐69621 Villeurbanne Cédex France) C Cindy Lo Van (Université Claude Bernard Lyon 1, INSA Lyon, Université Jean Monnet, CNRS UMR 5223 Ingénierie des Matériaux Polymères F‐69621 Villeurbanne Cédex France) R Raphael Brunel (Université Claude Bernard Lyon 1, INSA Lyon, Université Jean Monnet, CNRS UMR 5223 Ingénierie des Matériaux Polymères F‐69621 Villeurbanne Cédex France) D David Albertini (CNRS, INSA Lyon, Ecole Centrale de Lyon, Université Claude Bernard Lyon 1 CPE Lyon, INL, UMR 5270 Villeurbanne 69622 France) E Eloi Chamczyk (Université Claude Bernard Lyon 1, INSA Lyon, Université Jean Monnet, CNRS UMR 5223 Ingénierie des Matériaux Polymères F‐69621 Villeurbanne Cédex France) P Pierre Alcouffe (Université Claude Bernard Lyon 1, INSA Lyon, Université Jean Monnet, CNRS UMR 5223 Ingénierie des Matériaux Polymères F‐69621 Villeurbanne Cédex France) G Guillaume Sudre (Université Claude Bernard Lyon 1, INSA Lyon, Université Jean Monnet, CNRS UMR 5223 Ingénierie des Matériaux Polymères F‐69621 Villeurbanne Cédex France) F Frederic Lortie (Université Claude Bernard Lyon 1, INSA Lyon, Université Jean Monnet, CNRS UMR 5223 Ingénierie des Matériaux Polymères F‐69621 Villeurbanne Cédex France) J Julien Bernard (Université Claude Bernard Lyon 1, INSA Lyon, Université Jean Monnet, CNRS UMR 5223 Ingénierie des Matériaux Polymères F‐69621 Villeurbanne Cédex France)

Abstract

Abstract We report here how the polymerization‐induced self‐assembly approach can be implemented in orthogonally reactive dispersants to afford the preparation of nanostructured polymer networks. Precisely‐defined PMMA ‐b‐ PLMA block copolymers self‐assembling into different morphologies are first obtained in epoxy monomers through RAFT dispersion polymerization. The subsequent polymerization of the epoxide (through step growth or chain growth polymerization) affords the straightforward preparation of epoxy networks that integrate diverse BCP structures and exhibit significantly enhanced fracture toughness at extremely low block copolymer content (1% w/w).

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Article Details

Journal Angewandte Chemie International Edition

Volume / Issue Vol. 65, Issue 1

Published January 02, 2026

DOI 10.1002/anie.202518861

ISSN 1433-7851

Publisher Wiley

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Angewandte Chemie International Edition

Wiley

ISSN: 1433-7851 Physical Sciences