Surface-Immobilized Rhodium Complex in Vertically Aligned Mesoporous Silica Films for Direct Electroreduction of Diluted CO <sub>2</sub>
Article Details
Journal Info
Journal of the American Chemical Society
American Chemical Society
Authors (6)
Yutzil Segura-Ramirez
Laboratoire de Chimie des Processus Biologiques, Collège de France, UMR 8229 CNRS, Sorbonne Université, PSL Research University, 11 Place Marcelin Berthelot, 75005 Paris, France
Neus Vilà
Université de Lorraine, CNRS, LCPME
Alain Walcarius
Université de Lorraine, CNRS, LCPME
Marc Fontecave
Laboratoire de Chimie des Processus Biologiques, Collège de France, UMR 8229 CNRS, Sorbonne Université, PSL Research University, 11 Place Marcelin Berthelot, 75005 Paris, France
Carlos M. Sánchez-Sánchez
Sorbonne Université, CNRS, Laboratoire Interfaces et Systèmes Electrochimiques (LISE), 4 Place Jussieu, 75005 Paris, France
Maria Gómez-Mingot
Laboratoire de Chimie des Processus Biologiques, Collège de France, UMR 8229 CNRS, Sorbonne Université, PSL Research University, 11 Place Marcelin Berthelot, 75005 Paris, France